蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)是指腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)，也稱為光(guang)化(hua)學腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)，是指去除腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)區域的(de)保護觸摸，接觸化(hua)學溶(rong)液，達(da)到(dao)溶(rong)解腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)的(de)效果(guo)，形成凹(ao)凸或中(zhong)空成型的(de)效果(guo)。蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)技術可分為濕蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)和干蝕(shi)(shi)刻(ke)(ke)。

  蝕刻(ke)加工前需要準備金屬制品(pin)：

  1、金屬蝕刻表面的污漬(zi)和氧(yang)化膜(mo)應徹底清除。

  2、除氧(yang)化(hua)膜(mo)也要根據金屬的種類及膜(mo)厚的情(qing)況選用好(hao)的浸蝕液，保證(zheng)表(biao)面清洗(xi)干(gan)凈，材料表(biao)面要清洗(xi)干(gan)凈。

  3、油墨需要絲印均(jun)勻，且油墨附著性(xing)好(hao)，曝光顯(xian)影效(xiao)果(guo)好(hao)，圖像(xiang)顯(xian)現清晰，易退膜(mo)

  4、根據客戶需要制作好相應的(de)菲(fei)林(lin)文件，對應文件出相應的(de)菲(fei)林(lin)，拼版菲(fei)林(lin)時上下對位準確不(bu)能錯位。 

  早期蝕刻技術可用于制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛應用于減少重量儀器鑲板、銘牌和傳統加工方法難以加工的薄工件；經過不斷改進和工藝設備開發，也可用于航空、機械、化工行業，特別是半導體工藝，蝕刻是不可或缺的技術。

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